项目针对全球半导体EUV光引发剂市场主要被日韩等国外头部厂商垄断的现状，并解决感光性差、储存周期短和应用于光刻胶后残胶率高的技术难点。团队依托常州大学材料科学与工程国家级实验中心等平台，制备出国内首个多波段兼容的光刻胶引发剂。产品打破了日本头部公司的多年垄断，填补了国内市场空白。目前，团队研发的光引发剂已获得国内行业头部公司试用，并实现系列知识产权的布局。